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激光微熔覆加工系统

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激光微熔覆加工系统

产品简介:

激光微熔覆技术是以高能激光束作为热源,通过CAD/CAM软件,结合微细笔直写和微喷技术;

将各种功能材料(如金、银、铜、镍及其合金等)熔覆在各种介质基板表面,如塑料(聚酰亚胺(PI)、聚酯(POLYESTER)、聚碳酸酯(PC))、陶瓷、石英、玻璃等;

使熔覆材料内部、熔覆层与基材界面发生物理化学作用,获得不同线宽的导线及无源器件;

实现在无掩模下在基板表面直接制备导电层、电阻层和介质层的工艺过程,形成所需功能元器件和微系统。

设备特点及优势:

本技术所得图案层的线宽/线间距最大分辨率可达到20-7μm(与衬底材料和工艺有关),性能优良,与衬底材料具有良好的结合强度。独立开发的激光微熔覆工艺、技术及与装备,加工过程无需掩膜,依托装备的CAD/CAM功能,制造精度高、质量好、柔性化程度高,适应的熔覆材料和基板材料范围广,可实现平面二维图形和空间三维曲面激光微熔覆加工。


该技术与装备的突出优点是加工过程完全无需掩膜,直接依托装备的CAD/CAM功能,制造精度高、质量好、柔性化程度高,适应的熔覆材料和基板材料范围广,并可顺利实现平面二维图形和空间三维曲面激光微熔覆加工。


设备特点:

1、无需掩膜;所见及所得; 

2、柔性化程度高; 精度高; 

3、可实现三维加工制造; 

4、快速设计、小批量制造; 

5、可直写打印制备材料范围:导体材料、电阻材料、介质材料和半导体材料,如金、银、铜、镍、玻璃、塑料、光波导等; 

6、直写打印的衬底材料范围:塑料、陶瓷、石英、玻璃、单晶硅等;

7、制备的电子元器件与衬底结合强度高。


应用领域:

1、电子、微电子(平面、三维电路与器件);

2、精密机械、微电子机械系统(MEMS);

3、印刷线路板(PCB)、手机天线与背板、射频识别标签(RFID)、柔性显示器、传感器、太阳能电极;

4、生物工程。


技术参数:

激光功率  0~50W可选
 激光波长   355、532、1064nm(可选) 
 直写打印最小宽度   ≦100μm 
 直写打印单层厚度   5~15μm(可调)
 直写打印+激光复合微熔覆最小线宽   ≦30μm 
 直写打印速率   ≦20mm/s 
 直写打印材料粘度   1~100Pa.s 
 设备定位精度   ±5μm(可选) 
 设备重复定位精度   ±3μm(可选) 
 工作台尺寸   400×300×100mm (可选) 
 定位方式   CCD定位,自动补偿 
 支持文件   CAD、Protel、Gerber等 
 三维加工能力   具备

























样品展示:

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